8月5日，全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会，第七届中国微纳电子技术交流与学术研讨会在太原召开,该会议由中国半导体行业协会主办，来自全国各高校、科研院所的专家学者和相关企业代表近300人参加了本次研讨会。此次研讨会为期两天，主要涉及方面包括光电技术、硅基技术、微纳电子技术、宽禁带技术和工艺检测与设备等。

北京东方中科集成科技股份有限公司（以下简称“东方集成”）作为企业代表参加了本次会议，在会议上与各专家学者进行了广泛的交流，包括：

1.   椭偏仪在薄膜测量领域的新应用，其中涉及通过椭偏仪进行3D轮廓特征尺寸的表征及穆勒矩阵测量的技术问题；

2.   等离子刻蚀、沉积在不同半导体材料中的应用，特别是宽禁带半导体材料，如GaN、SiC等，同时还和专家们特别讨论了等离子刻蚀在电力电子器件、微机械器件中的特殊工艺情况；

3.   其他主要半导体工艺，如蒸发、溅射、离子注入等，并交流了东方集成在以上半导体工艺上可提供的技术支持。

总之，通过本次研讨会的交流，东方集成与半导体产业方面的科研专家增进了相互了解，更清楚用户的需求，东方集成将一如既往地向全国用户提供专业优质的仪器设备服务。